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MS180磁控鍍膜機(jī)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介 本鍍膜機(jī)主要應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室及微小產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)。

所屬分類:

小型鍍膜機(jī)


關(guān)鍵詞: MS180磁控鍍膜機(jī)

產(chǎn)品咨詢:

產(chǎn)品描述

產(chǎn)品簡(jiǎn)介
本鍍膜機(jī)主要應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室及微小產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)。具有如下特點(diǎn):
a)    桌面小型一體化結(jié)構(gòu)。本機(jī)對(duì)真空腔體、鍍膜電源及控制系統(tǒng)進(jìn)行整合設(shè)計(jì),體積與一臺(tái)A3打印機(jī)相仿(不包含真空機(jī)組,462x306x330mm,寬X高X深),可放到手套箱中使用。
b)    三靶或單靶設(shè)計(jì)。鍍膜單元中裝有三支2英寸磁控靶或一支3英寸磁控靶,適應(yīng)相應(yīng)的鍍膜材料。
c)    高穩(wěn)定度恒流濺射電源。本機(jī)配裝0.1%精度濺射電源,并具有恒流、恒功率輸出功能,對(duì)磁控靶能起到很好的保護(hù)作用。
d)    鍍膜厚度與速率控制。本鍍膜機(jī)可選配本公司研制石英晶體膜厚控制儀,在鍍膜過程中可對(duì)鍍膜速率和膜層厚度進(jìn)行控制。
e)    數(shù)據(jù)記錄。鍍膜機(jī)可將采集到的鍍膜數(shù)據(jù)保存到U盤,便于用戶分析控制(選配)。
f)    模塊化設(shè)計(jì)。本機(jī)將所有功能設(shè)計(jì)成標(biāo)準(zhǔn)化模塊,根據(jù)用戶不的需求對(duì)相應(yīng)模塊進(jìn)行組合。以達(dá)到最優(yōu)化的鍍膜環(huán)境。并便于用戶維修與維護(hù)
g)    圖形化操作界面及觸屏控制。本機(jī)操作控制采用7英寸TFT顯示屏顯示操作界面,觸屏操作,實(shí)現(xiàn)全圖形化界面,易用易懂。

技術(shù)指標(biāo)
供電電壓:AC220V/50Hz/800W
磁控電源功率:500W/DC600V/1A
磁控靶尺寸:2英寸/3支,或3英寸1支
樣品臺(tái)規(guī)格:直徑100mm(可旋轉(zhuǎn)和加熱)
樣品臺(tái)溫度:150~500℃/±1℃(選裝)
膜厚測(cè)量精度:0.1?
外接真空機(jī)組:可選配國產(chǎn)或進(jìn)口機(jī)組。
充氣組件:微調(diào)閥或流量控制器(選裝)
真空接口規(guī)格:KF25
極限真空度:3.0x10-4Pa(分子泵)
工作真空度:5~0.5Pa
使用環(huán)境溫度:<35℃
外型尺寸:462x306x330(寬x高x深)
重量:約18.5Kg不包含真空機(jī)組

 









 

 

 

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